濺射

1.低濺射功率下，與鍵角畸變有關的結構無序是導致光學帶隙變窄的主要因素。

2.因為先被切開的切口處會因為血壓的關系濺射出血液,這也是噴濺型血漬的成因。

3.在離子束濺射和離子輔助沉積光學薄膜技術中，離子源是其中最關鍵的單元技術之一。

4.所述的合金組合物優選形成為用于薄膜應用領域的濺射靶。

5.采用磁控濺射方法制備金屬銻薄膜，并把它作為鋰離子二次電池負極進行研究。

6.濺射原子發射的角分布概率和濺射花樣與高能濺射相類似。

7.采用氫離子濺射和X射線光電子能譜相結合的方法，檢測焦磷酸鹽鍍銅層和鐵基體界面區含氧量的變化，證明了氧化層的存在。

8.分析了氘飽和狀態下液態鋰作為包層流動液簾表面的濺射問題，得到了氘飽和狀態下液態和固態鋰的濺射產額。

9.應用TRIM程序模擬了離子在氚鈦靶上的濺射產額。

10.通過磁控反應濺射，在玻璃基底上制備了不同濺射溫度下的氧化鈦薄膜。

11.并且隨著陰極溫度升高,陰極濺射率也隨之增加.

12.首先提出真空管道自體真空鍍膜新概念，采用特殊的陰極靶結構設計成功的解決了長管道內表面直流濺射鍍膜的難題。

13.采用射頻濺射制備BST薄膜，研究了薄膜的介電擊穿特性。

14.利用磁控射頻濺射技術制備了ITO薄膜。

15.在不同的襯底溫度下用射頻濺射方法制備了氮化碳薄膜。

16.用射頻反應濺射法制備出BCN薄膜。

17.方法：用電子束蒸發和射頻磁控濺射兩種技術制備了天然HA薄膜。

18.在不同條件下用射頻濺射方法制備了氮化碳薄膜。

19.這是濺射離子簇質譜中繼“幻數”結構的另一個重要性質。

20.介紹一種大功率直流濺射恒流電源的設計。